Number of the records: 1  

Vliv magnetického pole na plazma elektrického oblouku

  1. View book information on page www.obalkyknih.cz

    book


     Dohnal, Petr, 1976- - Author
    V Brně : Vysoké učení technické v Brně, c2005 - 29 s. : il. ; 21 cm
    ISBN 80-214-2842-2
    Vědecké spisy Vysokého učení technického v Brně. Edice PhD Thesis ;
     elektrický proud  plazma (fyzika)  plazmové svařování  plazmové technologie  magnetické pole
     studie
    Call numberC 317.654
    Umístění 537 - Elektřina. Magnetismus
    Vliv magnetického pole na plazma elektrického oblouku
    BranchPlaceInfoSignature
    Lidická ( příruční sklad )k vypůjčeníC 317.654   

    Title statementVliv magnetického pole na plazma elektrického oblouku : zkrácená verze Ph.D. Thesis = Influence of magnetic field to electrical arc plasma / Petr Dohnal
    Par.titleInfluence of magnetic field to electrical arc plasma
    Main entry-name Dohnal, Petr, 1976- (Author)
    Issue dataV Brně : Vysoké učení technické v Brně, c2005
    Phys.des.29 s. : il. ; 21 cm
    ISBN80-214-2842-2
    National bibl. num.cnb001496383
    Ser.statement/add.entry Vysoké učení technické v Brně. Vědecké spisy. Edice PhD Thesis ; sv. 293
    NoteNad názvem: Vysoké učení technické v Brně, Fakulta elektrotechniky a komunikačních technologií
    Internal Bibliographies/Indexes NoteObsahuje bibliografii
    Language noteSouhrn anglicky
    Another responsib. Vysoké učení technické v Brně. Fakulta elektrotechniky a komunikačních technologií (Other)
    Subj. Headings elektrický proud * plazma (fyzika) * plazmové svařování * plazmové technologie * magnetické pole
    Form, Genre studie
    Conspect537 - Elektřina
    UDC 621:533.9 , 621.791.755 , 533.9 , 52-726 , 537.6 , 537.8
    CountryČesko
    Languagečeština
    Ve volném výběru537 - Elektřina. Magnetismus
    Document kindBOOKS
    Vliv magnetického pole na plazma elektrického oblouku
    Loading…

Number of the records: 1  

  This site uses cookies to make them easier to browse. Learn more about how we use cookies.